维氏硬度计的常见故障以及处理方法

2016-05-03 今天我们主要来介绍一下维氏硬度计常见故障及处理方法，希望可以帮助到大家。故障类型:1.加荷指示灯、测量灯不亮的故障;2.测量显微镜内浑浊，看不到或者看不清压痕;3.压痕不在神志内或稍转动工作台，压痕位置变化比较大。检查故障：(1)加荷指示灯、测量显微镜灯不亮首先检查电源是否接好，然后检查开关、灯泡等。如排除这些因素后还不亮，就要看看负荷是否全部加上或簧片开关是否正常。排除之后仍不正常，就必须从线路(电路)入手逐步排查。(2)测量显微镜内浑浊，看不到或看不清压痕这应从调整显微镜...

故障分析磁翻板液位计浮子

2016-04-25 故障现象一：浮子损坏，导致显示板指示不正确。故障分析：磁翻板液位计里的浮子损坏，通常有以下几个原因：1、浮子由于强度设计不对，导致受到过压力时向里面凹，变瘪。2、在焊接处没焊透或漏焊，导致浮子受到压力时焊缝裂开，浮子进水。3、浮子由于使用时间长或者长期高温使用，出现退磁，导致无法使用。4、浮子中的磁钢松动，导致浮子无法工作。为避免以上常见故障，计为生产的磁翻板液位计浮筒选用的304或者316L不锈钢材料，匹配浮筒内径与浮子外径尺寸，并依据现场介质的密度和压力准确计算浮子的尺寸...

涡街流量计

2016-04-25 1.微型便携化涡街流量计的应用场合已经走出实验室，无论是现场校准还是环境保护的现实需求都需要便携式涡街流量计。超大规模集成(VLSI)新器件、微机电系统(MEMS)、圆片规模集成(WSI)和多芯片模块(MCM)等；采用微控技术、微加工技术、微检测技术、微光源、微分光光学系统、微传感器等，使涡街流量计产品体积缩小，精度提高成为可能。2.追求高稳定性和高可靠性随着仪器仪表和测控系统应用领域的不断扩大，可靠性技术在航天航空、电力、冶金、石油化工等大型工程和工业生产中起到维护正常工作...

超声波测厚仪的使用小技巧

2016-04-21 超声波测厚仪是根据超声波脉冲反射原理来进行厚度测量的，当探头发射的超声波脉冲通过被测物体到达材料分界面时，脉冲被反射回探头通过测量超声波在材料中传播的时间来确定被测材料的厚度。凡能使超声波以一恒定速度在其内部传播的各种材料均可采用此原理测量。特点：超轻超薄机身，便于单手操作两点校准功能，使得测量值更为准确*蓝色背景灯光，各种环境下清晰可视低功耗，两节干电池可使用200小时以上适合测量所有导声材料，如钢、铁、塑料、陶瓷、有机玻璃等使用技巧：一般测量1、在一点处用探头进行两次测厚...

噪音粉尘实时监测系统1

2016-04-13 北信未来研发，推广的噪音粉尘实时监测系统（现场温湿度，风速），已经悄然进驻了几家工地，从工地和远程电脑上，随时都能看到工地的噪音和粉尘情况。未来电子已给部分项目中试点安装噪声扬尘监测系统设备，在线监测施工现场噪声、扬尘实时状况，并取得良好效果。下一步技术人员将总结试点经验，逐步加大推广施工现场安装噪声扬尘监测系统设备，利用科技手段进行扬尘污染治理。扬尘是构成空气污染的主要污染因子之一，对灰霾天气的贡献度在25%以上。效果图（未调试）挑灯夜战传感器效果图（未调试）

粉尘采样器需要革命创新

2016-04-11 预捕集器是粉尘采样器的分离装置。呼吸性粉尘预捕集器能对危害人体的呼吸性粉尘和粗粉料粉尘进行分离，其分离效率符合*的“BMRC”曲线标准。它广泛运用于疾病预防、环境监测、劳动保护、安监、军事、科研教学、冶金、石油化工、铁路、建材等部门的卫生监测和评价，于测定生产班组工作场所内空气中粉尘平均浓度。新型粉尘采样器是在普通采样器的基础上，经过创新与改良完成的，它对用户更加有帮助。首先，新型粉尘采样器主要功能及特点1、新型粉尘采样器采用进口膜片泵，寿命长，运行平稳流量稳定，抗负载能力强...

涂镀层测厚仪

2016-04-06 涂镀层测厚仪根据测量原理一般有以下五种类型:1.磁性测厚法:适用导磁材料上的非导磁层厚度测量.导磁材料一般为:钢\铁\银\镍.此种方法测量精度高2.涡流测厚法:适用导电金属上的非导电层厚度测量.此种方法较磁性测厚法精度低3.超声波测厚法:目前国内还没有用此种方法测量涂镀层厚度的,国外个别厂家有这样的仪器,适用多层涂镀层厚度的测量或则是以上两种方法都无法测量的场合.但一般价格昂贵\测量精度也不高.4.电解测厚法:此方法有别于以上三种,不属于无损检测,需要破坏涂镀层.一般精度也不...

各类变送器应该如何选用

2016-04-06 各类变送器应该如何选用一、压力变送器压力变送器也称差变送器，主要由测压元件传感器、模块电路、显示表头、表壳和过程连接件等组成。它能将接收的气体、液体等压力信号转变成标准的电流电压信号，以供给指示报警仪、记录仪、调节器等二次仪表进行测量、指示和过程调节。压力变送器的测量原理图如图3所示。其测量原理是：流程压力和参考压力分别作用于集成硅压力敏感元件的两端，其差压使硅片变形（位移很小，仅μm级），以使硅片上用半导体技术制成的全动态惠斯登电桥在外部电流源驱动下输出正比于压力的mV级电...